大家好，今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話題，就是關(guān)于中國制造設(shè)備很差的問題，于是小編就整理了1個(gè)相關(guān)介紹中國制造設(shè)備很差的解答，讓我們一起看看吧。

中國芯片最大痛點(diǎn)：光刻機(jī)為啥這么難？

光刻機(jī)又稱掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是利用紫外線通過模板去除晶圓表面的保護(hù)膜的設(shè)備，目前最好的光刻機(jī)是荷蘭ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)。

光刻機(jī)制造難度極高，基本代表人類科學(xué)技術(shù)、工業(yè)制造的最高成果。其中難度最大的是鏡頭和光源。

光刻機(jī)的鏡頭采用蔡司技術(shù)，蔡司是德國歷史悠久的光學(xué)儀器廠商，其產(chǎn)品向來是“高貴”的代名詞。同樣的一個(gè)鏡片，不同工人打磨，光潔度相差十倍。鏡片材質(zhì)均勻，更需要幾十年甚至上百年的技術(shù)沉淀。光學(xué)鏡片的進(jìn)步是異常艱難的。

光刻機(jī)的光源使用波長極短的極紫外光，該技術(shù)是使用激光產(chǎn)生等離子源產(chǎn)生13nm的紫外波長。這種光源工作在真空環(huán)境下，產(chǎn)生紫外波長，然后由光學(xué)聚焦形成光束，光束經(jīng)由用于掃描圖形的反射掩膜版反射，由于極紫外光的固有特性，產(chǎn)生極紫外光的方式十分低效。能源轉(zhuǎn)換效率只有 0.02% 左右。

還有光源曝光頭、真空管路系統(tǒng)、七路系統(tǒng)、真空泵等等全都是當(dāng)今世界上最精密的儀器，要把這些精密儀器組合在一起而且誤差接近于0，其難度可想而知。

光刻機(jī)制作芯片的工作，比米粒上刻清明上河圖還要難，而且還要在真空環(huán)境中，移動(dòng)狀態(tài)下。

最要命的是光刻機(jī)設(shè)備和零部件對(duì)我國是封鎖的。也就是制作一臺(tái)光刻機(jī)，要全世界高精端設(shè)備公司最好的產(chǎn)品組合在一起，如果一個(gè)國家要制造出全部零部件，目前看不可能。

你好，光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備，在工業(yè)領(lǐng)域，最難的不是芯片設(shè)計(jì)，而是芯片制造，用的就是光刻機(jī)。

有一位美國工程師表示，光刻機(jī)的一個(gè)零件調(diào)整多達(dá)數(shù)十年之久。

目前荷蘭的ASML最先進(jìn)的光刻機(jī)，集成了大量的來自德國美國日本等最先進(jìn)的技術(shù)，比如光刻機(jī)的光源設(shè)備主要來自美國的Cymer公司，鏡頭則來自于德國蔡司。

用光刻機(jī)做出一個(gè)芯片大概需要3000工序，由于每一步都是“硅上雕花”，有一定的失敗率，三千步下來，要讓最終成品合格率高于95%，每一步的失敗率必須小于0.001%。

目前全世界能夠生產(chǎn)高端光刻機(jī)的只有三家，分別是荷蘭 ASML，日本的尼康和佳能。

關(guān)鍵是在新一代的光刻機(jī)技術(shù)研發(fā)燒錢太大，尼康和尼佳已經(jīng)都放棄了。

也就是說，到了最后，荷蘭ASML一家獨(dú)占了全球光刻機(jī)市場的85%，利潤的107%。

其實(shí)在2012年，荷蘭ASML研究最新光刻機(jī)沒錢也想放棄的，結(jié)果等著光刻機(jī)續(xù)命的企業(yè)，比如intel、三星、臺(tái)積電從家里拿來大幾十億美元支持 ASML，最終造出了能夠制造7nm制程芯片的光刻機(jī)，每臺(tái)還能售賣1億美元。

一億美元的確很貴，可是事關(guān)卡脖子，我們也不差1億吧，關(guān)鍵是有1億也是買不到，才是最大的問題。

這個(gè)協(xié)議簡單的解釋就是美國帶著他的小伙伴們不把技術(shù)賣給其他國家，其中中國就是沒被安排到了。

光刻機(jī)應(yīng)該不是中國芯片的最大痛點(diǎn)。分明是含有美國技術(shù)的代工嘛。據(jù)報(bào)道，國內(nèi)現(xiàn)有代工廠無一不是這樣，都不能讓華為芯片設(shè)計(jì)在自己那里變?yōu)楫a(chǎn)品。

自主研發(fā)國產(chǎn)光刻機(jī)分明有啊。上海微電子早就可以實(shí)現(xiàn)90nm光刻機(jī)的生產(chǎn)。倒是像軍民用飛機(jī)的航空發(fā)動(dòng)機(jī)一樣，光刻機(jī)雖然有，我國是世界上極少數(shù)擁有的國家之一，已經(jīng)了不起，卻與全球頂級(jí)有著很大的差距，痛是痛著，但不是最大的痛，因?yàn)椴幌駠鴥?nèi)代工廠們，自己不僅為技術(shù)水平是低端的而痛著，更由于被美國管制得死死的即“形有卻實(shí)無”而痛著，還讓本是芯片設(shè)計(jì)技術(shù)為世界先進(jìn)的同一國兄弟企業(yè)為孤立無援而心痛著。

據(jù)報(bào)道上海微電子將在2021或2022年推出28nm光刻機(jī)。也有人說不叫28nm光刻機(jī)，而是193nm浸入式光刻機(jī)，193nm是光源波長，極限工藝是7nm。反正將是又進(jìn)一步，并且，荷蘭ASML是集全世界之力搞出全球頂級(jí)的，我國則是在被封鎖相關(guān)技術(shù)的情況下單獨(dú)搞出來的，而擁有了低端的就會(huì)擁有高端的，最重要的是走上了自主研發(fā)的道路，這分外珍貴，也大有前途。

國產(chǎn)頂級(jí)光刻機(jī)制造的最大難點(diǎn)在于國內(nèi)還制造不出頂級(jí)零件。頂級(jí)光刻機(jī)必須通過整合那些相關(guān)頂級(jí)技術(shù)和零件才能實(shí)現(xiàn)是已知的，這是ASML的既有模式和成功經(jīng)驗(yàn)。整合應(yīng)該是相對(duì)容易的，然而，我國的鏡頭、光源、材料等等配套企業(yè)在技術(shù)水平上卻還不是世界頂級(jí)的，這是光刻機(jī)這個(gè)痛點(diǎn)持續(xù)存在的根本因素。

一國單獨(dú)造出頂級(jí)光刻機(jī)還沒有先例。世界頂級(jí)的光刻機(jī)技術(shù)和零件配套企業(yè)都是誰是已知的，卻又知道不會(huì)給我國提供配套，我國只能單打獨(dú)斗，這也就表明我國注定是發(fā)展慢于ASML的，盡管技術(shù)都是什么、復(fù)雜在哪里也是已知的，國內(nèi)配套企業(yè)就是難以很快提升技術(shù)水平，同時(shí)，顯然表明達(dá)到高端只是個(gè)時(shí)間問題，這符合科技研發(fā)的普遍規(guī)律。這一切都跟我國的航空發(fā)動(dòng)機(jī)特別像。早就聽說ASML講過即使我國企業(yè)拿到圖紙也造不出頂級(jí)光刻機(jī)，此話肯定太離譜了，我國的上海微電子及其配套企業(yè)一定會(huì)堵住ASML的嘴。

已有的光刻機(jī)特別是將有的技術(shù)更進(jìn)一步光刻機(jī)應(yīng)該就能讓華為擺脫美國切斷國內(nèi)外代工渠道所致的困境。如果連中芯國際都代工不上華為芯片，華為大不了自己購買和使用上海微電子最新推出的光刻機(jī)，實(shí)現(xiàn)自己設(shè)計(jì)、自己制造，雖然只能暫時(shí)生產(chǎn)出中低端芯片，卻也是有路可走，立馬打破了美國政府的阻遏。

回答完畢，感謝題主！

到此，以上就是小編對(duì)于中國制造設(shè)備很差的問題就介紹到這了，希望介紹關(guān)于中國制造設(shè)備很差的1點(diǎn)解答對(duì)大家有用。